“名山系列”五大中心设备（EPI“峨眉山”、ETCH“武夷山”、CVD“长白山”等）
新凯来的兴起与华为技能基因密不可分。揭露信息数据显现，其中心团队曾深度参加华为“星光工程”等要害技能攻关项目，并主导开发了多项半导体工艺专利。例如，新凯来与华为联合请求的“自对准四重成像技能”专利，旨在削减对高端光刻机的依靠，为国产芯片制作拓荒新途径。2021年，这支团队在深圳国资委支撑下成立新凯来技能有限公司，依托国家大基金二期资源，聚集半导体设备研制与国产代替。
在量检测配备、薄膜堆积等“卡脖子”范畴，新凯来已打破13类要害产品，填补国内空白。其“峨眉山”EPI设备掩盖12英寸晶圆先进制程，对标世界巨子使用资料（AMAT）；“阿里山”ALD设备更直指5纳米以下先进工艺，打破ASM和东京电子（TEL）的独占格式。据泄漏，其设备已经过国内尖端晶圆厂验证，部分产品进入量产阶段。
作为深圳严重工业出资集团旗下企业，新凯来的诞生标志着“国资+技能”协同形式的成功实践。其研制系统掩盖资料、零部件到整机制作，与中芯世界等工业链上下游深度绑定，构成“研用一体”闭环。有经历的人指出，新凯来的技能打破不只缓解了“缺芯”危机，更推进良久半导体工业从“补短板”向“建长板”跃迁，为全球芯片供应链重构注入良久力量。
